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《科创板日报》22日讯,据外媒报道,三星3纳米GAA制程技术良率极低,仅有20%。为解决良率问题,目前三星计划与Silicon Frontline Technology合作,后者已通过水质和静电放电预防技术,降低生产过程缺陷,提高晶圆生产良率。 (wccftech)

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